通用 Apex® 系列射频电源和供电系统采用复杂的射频转换技术，在适合于真空室安装的模块化设计中提供增大的产品和工艺可靠性。Apex 平台在针对半导体、平板显示器或数据存储制造以等离子为基础的薄膜工艺中表现优异。

GHW系列射频电源以13.56 MHz的频率提供1250、2500和5000瓦的最大额定输出功率。 GHW系列电源具有经实践证明的可靠性，出色的稳定性以及无与伦比的可重复性，从而可实现高正常运行时间和高工艺产量。 它们非常适合在集成电路，平板显示器和数据存储设备制造过程中用于等离子体增强化学气相沉积（PECVD），高密度等离子体CVD（HDPCVD），蚀刻和其他薄膜应用。

NOVA®系列射频电源以2 MHz的频率提供2,500或5,000瓦的额定输出功率。 NOVA系列射频电源提供先进的RF等离子体产生和控制功能，可在最苛刻的薄膜处理应用中以低成本和高成品率提供。 它们非常适合在集成电路，平板显示器和数据存储设备制造过程中用于等离子体增强化学气相沉积（PECVD），高密度等离子体CVD（HDPCVD），蚀刻和其他薄膜应用。

Flexible, Cost-Effective Solutions to Impedance Matching
In order to maximize the power transfer from your amplifier to your load, you need to ensure that the impedance of both the source and load are the same. All Electronics & Innovation, Ltd. amplifiers have a characteristic output impedance of 50 ohms – if the impedance of your load is not 50 ohms, you will have some power reflected back to the amplifier.

RF Power Amplifiers from 10 KHz to 500 MHz, with power levels up to 2000 Watts

多功能 Navigator® 匹配网络的先进技术能在多种负载阻抗下（从15W 至 30kW）进行快速、准确而可靠的匹配。该匹配网络配备了微处理器控制步进马达电路和用户可选数字调谐算法，使它能提供较传统模拟调谐法更高的一致性和精确性。这也使得它可以优化半导体、太阳能、FPD 以及 MEMs工艺流程（包括蚀刻、CVD、HDP-CVD、PVD 和腔体清洗应用）的输送过程功率。一个可选的内部 Z'Scan® 射频传感器可提供对过程功率和阻抗的实时测量和分析，从而使您能够发现并显著降低制程变化性。此外，可选的虚拟前面板 (VFP) 软件使您能够通过一台个人计算机来监视并控制匹配网络。